標準分類中，紫外光電子能譜涉及到分析化學(xué)、電學(xué)、磁學(xué)、電和磁的測量、光學(xué)和光學(xué)測量、無損檢測、有色金屬、電子元器件綜合。

　　在中國標準分類中，紫外光電子能譜涉及到基礎(chǔ)標準與通用方法、綜合測試系統(tǒng)、電子光學(xué)與其他物理光學(xué)儀器、化學(xué)、化學(xué)助劑基礎(chǔ)標準與通用方法、光學(xué)測試儀器、貴金屬及其合金、重金屬及其合金、標準化、質(zhì)量管理。

　　市場監(jiān)督管理總局、中國標準化管理委員會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告

　　質(zhì)檢總局，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 36401-2018 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 薄膜分析結(jié)果的報告

　　GB/T 31472-2015 X光電子能譜中荷電控制和荷電基準技術(shù)標準指南

　　GB/T 31470-2015 俄歇電子能譜與X射線光電子能譜測試中確定檢測信號對應(yīng)樣品區(qū)域的通則

　　GB/T 30704-2014 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 分析指南

　　GB/T 30702-2014 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 實驗測定的相對靈敏度因子在均勻材料定量分析中的使用指南

　　GB/T 29556-2013 表面化學(xué)分析 俄歇電子能譜和X射線光電子能譜 橫向分辨率、分析面積和分析器所能檢測到的樣品面積的測定

　　GB/T 28893-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.測定峰強度的方法和報告結(jié)果所需的信息

　　GB/T 28892-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.選擇儀器性能參數(shù)的表述

　　GB/T 28633-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.強度標的重復(fù)性和一致性

　　GB/T 28632-2012 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.橫向分辨率測定

　　GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅層厚度的測量 X射線光電子能譜法

　　GB/T 25185-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.荷電控制和荷電校正方法的報告

　　GB/T 19500-2004 X射線光電子能譜分析方法通則

　　GB/Z 32490-2016 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜 確定本底的程序

　　中華人民共和國質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局、中國標準化管理委員會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　GB/T 33502-2017 表面化學(xué)分析 X射線光電子能譜(XPS)數(shù)據(jù)記錄與報告的規(guī)范要求

　　英國標準學(xué)會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　BS ISO 14701-2018 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜學(xué). 二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 18554-2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

　　BS ISO 19830-2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報告要求

　　BS ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　BS ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　BS ISO 16531-2013 表面化學(xué)分析.深度剖析.在光電子能譜(XPS)和原子發(fā)射光譜(AES)的深度剖析中離子束校準和電流或電流密度的相關(guān)測量用方法

　　BS ISO 16531-2013 表面化學(xué)分析.深度剖析.在光電子能譜(XPS)和原子發(fā)射光譜(AES)的深度剖析中離子束校準和電流或電流密度的相關(guān)測量用方法

　　BS ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

　　BS ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

　　BS ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).二氧化硅厚度測量

　　BS ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南

　　BS ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析指南

　　標準化組織，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　ISO 15470-2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明

　　ISO 15470-2017 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜. 選擇儀器性能參數(shù)說明

　　ISO 18554-2016 表面化學(xué)分析. 電子光譜. 采用X射線光電子能譜分析法對材料進行分析的X射線的意外降解的識別, 評估和修正程序

　　ISO 19830-2015 表面化學(xué)分析. 電子能譜. X射線光電子能譜峰擬合的低報告要求

　　ISO 17109-2015 表面化學(xué)分析. 深度剖析. 使用單層和多層薄膜測定X射線光電子能譜, 俄歇電子能譜以及二次離子質(zhì)譜法濺射深度剖析中濺射率的方法

　　ISO 16531-2013 表面化學(xué)分析.深度剖析.原子發(fā)射光譜(AES)和光電子能譜(XPS)中深度剖析用電流或電流密度的離子束校正和相關(guān)測量方法

　　ISO 16243-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

　　ISO 14701-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜.二氧化硅厚度的測量

　　ISO 10810-2010 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜學(xué).分析導(dǎo)則

　　ISO/TR 19319-2003 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

　　日本工業(yè)標準調(diào)查會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　JIS K0152-2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強度標的重復(fù)性和一致性

　　JIS K0152-2014 表面化學(xué)分析. X射線光電子能譜分析. 強度標的重復(fù)性和一致性

　　JIS K0167-2011 表面化學(xué)分析.俄歇電子光譜和X射線光電子能譜學(xué).勻質(zhì)材料定量分析用實驗室測定相對敏感因子的使用指南

　　法國標準化協(xié)會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　NF X21-073-2012 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜術(shù)(XPS)的記錄和報告數(shù)據(jù)

　　NF X21-071-2011 表面化學(xué)分析.X射線光電子能譜法.分析用導(dǎo)則

　　NF X21-058-2006 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜學(xué)和X射線光電子光譜法.測定峰強度使用的方法和報告結(jié)果時需要的信息

　　美國材料與試驗協(xié)會，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　ASTM E995-2011 在俄歇電子能譜和X射線光電子能譜中應(yīng)用背景消除技術(shù)的標準指南

　　ASTM E996-2010 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程

　　ASTM E996-2004 俄歇電子光譜儀和X射線光電子能譜的報告數(shù)據(jù)的標準規(guī)程

　　ASTM E996-1994(1999) 俄歇電子能譜分析和X射線光電子光譜分析數(shù)據(jù)報告的標準規(guī)程

　　行業(yè)標準-有色金屬，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　YS/T 644-2007 鉑釕合金薄膜測試方法 X射線光電子能譜法 測定合金態(tài)鉑及合金態(tài)釕含量

　　韓國標準，關(guān)于紫外光電子能譜的標準

　　KS D ISO 19319-2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

　　KS D ISO 19319-2005 表面化學(xué)分析.俄歇電子能譜和X射線光電子能譜.分析員對橫向分辨率、分析區(qū)域和樣品區(qū)域的目視檢測

　　KS D 2518-2005 鎘光電子能譜分析法

　　KS D 2518-2005 鎘光電子能譜分析法